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PVD材料、技術(shù)問(wèn)答

2022-04-24 11:13
一鍵分享

1.什么是PVD?

PVD是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),指利用物理過(guò)程實(shí)現物質(zhì)轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過(guò)程


2.什么是CVD?

CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學(xué)氣相沉積),指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在基材表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜的過(guò)程


3.PVD的優(yōu)點(diǎn)是什么?

PVD物理氣相沉積方法工藝溫度低,通常涂層的沉積溫度為450度℃,沒(méi)有任何污染的一種環(huán)保表面處理方法,為世界發(fā)達國家所推崇。


4.PVD的適用范圍是什么?

目前大家所接觸的通常有以下幾類(lèi),光學(xué)鍍膜(鏡片,玻璃等)、裝飾鍍膜、功能鍍膜等、每個(gè)行業(yè)的涂層要求是不一樣的,評判標準也不一樣。


5.PVD的常用方法有哪些?

PVD通常的方法有:蒸發(fā),濺射,電弧等方法,每種方法各有特點(diǎn),如濺射方法顆粒細,缺陷少但結合不佳,電弧方法顆粒大,結合力好,但顆粒較粗,表面缺陷較多如液滴。


6.勝倍爾的PVD方法是什么?

我司用的是增加磁控濺射、磁控陰極弧和離子束相結合的方法。


7. 勝倍爾的PVD工藝溫度是多少?

我司根據客戶(hù)產(chǎn)品的不同,涂層工藝溫度從60度℃~250℃度